Sistema de revestimiento al vacío de grado industrial-que integra pulverización catódica con magnetrón (RF/DC/HiPIMS) y evaporación por arco catódico. Diseñado para la deposición continua de películas delgadas-de múltiples-capas, aleaciones y nano-compuestos a escala de producción.
Especificaciones técnicas
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Parámetro |
Valor de especificación |
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Presión de vacío máxima |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
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Dimensiones de la cámara |
Tamaño personalizado desde D 600 mm x 600 mm hasta D 1500 mm x 1500 mm (acero inoxidable electro-pulido 304/316L) |
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Fuentes de deposición |
Configurable: 2-6 cátodos de pulverización catódica con magnetrón / 2-4 fuentes de arco |
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Poder de polarización del sustrato |
0 a -1000 VCC ajustable (CC pulsada para sustratos dieléctricos) |
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Uniformidad del espesor de la película |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
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Temperatura del sustrato |
Ambiente a 650 grados (control de bucle cerrado-PID de +/{2}} grados) |
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Distribución de energía |
RF (13,56 MHz), CC, CC pulsada y frecuencia media-(MF) con supresión de arco |
Características clave
Integración de tecnología dual-:Combina pulverización catódica (películas compuestas suaves y amorfas) y arco catódico (deposición de metales/aleaciones de alta-ionización) en un ciclo de bombeo-.
Gestión de gas en circuito cerrado-:Los controladores de flujo másico (MFC) combinados con el monitoreo óptico de emisiones (OEM) estabilizan las presiones parciales del gas reactivo.
Aislamiento mecánico:Las transmisiones planetarias de múltiples-ejes aíslan los cojinetes mecánicos de la zona de proceso, evitando la contaminación por partículas.
Arquitectura Térmica:Las paredes de la cámara refrigeradas por agua-de doble-pared-y el blindaje contra la radiación evitan la distorsión térmica durante el funcionamiento de alta-potencia.
Núcleo de automatización:PLC Siemens S7-1500 y arquitectura WinCC SCADA para monitoreo de enclavamiento, gas y energía en tiempo real.
Configuración del sistema de vacío
Tren de desbaste:Bombas de paletas rotativas de accionamiento directo-respaldadas por sopladores Roots con sellos de fluido magnético.
Alto vacío:Bombas turbo-moleculares levitadas magnéticamente (1200 - 3200 L/s) o bombas criogénicas.
Diagnóstico:Puertos de prueba de espectrómetro de masas de helio integrados y enclavamientos de secuenciación automatizados.
Compatibilidad de materiales y sustratos
Materiales objetivo:
Rieles:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si
Cerámica/Compuestos:Estaño, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2
Sustratos:Aceros para herramientas (H13, M2, insertos de carburo), aleaciones estructurales de titanio/aluminio, cerámicas de ingeniería y obleas de silicio.
Aplicaciones y rendimiento probado
Herramientas de corte:Recubrimientos multicapa (TiAlN/TiN) de baja-fricción y alta-dureza-para una mayor vida útil de la herramienta en mecanizado en seco a alta-velocidad.
Automotor:Recubrimientos antidesgaste y anti-rozaduras para aros de pistón y pasadores de inyección de combustible.
Aeroespacial:Barrera térmica-resistente a la oxidación y películas protectoras en aspas y sujetadores de compresores.
Óptica y Electrónica:Óxidos transparentes conductores (ITO) y filtros de interferencia óptica.
Opciones de personalización
Geometría de la cámara:Configuraciones de cajas rectangulares para carga de racks por lotes o geometrías cilíndricas en línea.
Reequipamiento de fuente:Bridas de montaje de cátodo intercambiables para conversión en campo a CFUBMS.
Grabado con plasma:Pistolas de iones tipo Kaufmann-o fuentes de cátodo hueco para limpieza de sustratos-in situ.
Control de calidad y pruebas de fábrica
Integridad del vacío:Umbral de prueba de fuga de helio<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
Acabado superficial:Soldaduras internas de la cámara electro-pulidas a Ra<= 0.4 um.
GORDO:Prueba continua de funcionamiento en seco de 72-horas de vacío, movimiento y bucles de enclavamiento de seguridad antes del embalaje.
Estándares de cumplimiento:Construido según las directivas de maquinaria CE y las normas ISO 9001. (Iconos de insignia de confianza: ISO 9001, CE, UL)
Instalación y soporte técnico
Paquete de documentación:Esquemas P&ID, diagramas de cableado eléctrico, lógica fuente PLC y expedientes de cumplimiento CE/UL.
Puesta en servicio:Los ingenieros de campo supervisan el posicionamiento mecánico, las conexiones de servicios públicos y la verificación de fugas.
SAT y entrega de recetas:Ejecuciones de pruebas de referencia en el sitio y optimización de recetas.
Preguntas frecuentes
P: ¿Cuál es el tiempo de inactividad del bombeo-hasta alcanzar la presión base?
R: Alcanza <5,0 x 10^-4 Pa en 45 minutos en condiciones térmicas ambientales, limpias y secas.
P: ¿Puede el sistema cambiar entre pulverización catódica de CC y RF a mitad del-proceso?
R: Sí. La matriz de potencia permite la secuenciación controlada por software-entre CC, CC pulsada y RF sin romper el vacío.
P: ¿Qué servicios públicos se requieren en-el sitio?
R: Agua enfriada (de 15 a 20 grados de 0,3 a 0,4 MPa), aire comprimido (0,6 MPa), gases de proceso de alta-pureza (Ar, N2, O2 al 99,999%) y energía industrial trifásica dedicada.
P: ¿Cómo se regula la temperatura del sustrato durante la deposición?
R: Pirómetros infrarrojos integrados junto con bancos de calentadores radiantes y control de circuito cerrado-PID.
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