Equipo de evaporación al vacío asistida por iones-

El sistema de evaporación por vacío asistido por iones-integra fuentes de evaporación por haz de electrones o térmicas de alto-vacío-con una fuente de iones de tipo Kaufman-o End-Hall. Al bombardear la película en crecimiento con gas ionizado (Ar u O2) durante la deposición física de vapor (PVD), el sistema transfiere energía cinética a los adatomos, suprimiendo la microestructura columnar y previniendo la absorción de humedad en películas delgadas ópticas y dieléctricas.

Diseñado para la integración de salas limpias y la producción continua de múltiples-turnos, el sistema escala desde espacios de investigación y desarrollo (cámaras de 300 mm) hasta líneas industriales de alto-rendimiento (configuraciones de rotación planetaria y doble-puerta de 900 mm).

Cerca de-densidad aparente:La elevada movilidad de la superficie del adatom elimina la porosidad visible de la película y maximiza la dureza mecánica.

Ajuste de estrés intrínseco:La energía del haz de iones ajustable neutraliza la tensión mecánica, evitando la delaminación en pilas dieléctricas gruesas.

Procesamiento de presupuesto-térmico-bajo:La densificación impulsada por el impulso-permite un recubrimiento de alto-rendimiento sobre sustratos de polímeros sensibles a la temperatura-sin distorsión térmica.

Automatización de recetas:Interbloqueos de vacío controlados por PLC-y secuenciación de bombeo-gestionada a través de un panel táctil-industrial HMI con registro de datos.

Etapa de desbaste:Bomba mecánica de paletas rotativas-de doble etapa acoplada con un soplador de raíces (velocidad de 150 L/s) para un cruce rápido.

Etapa de alto vacío:Bomba turbomolecular de levitación magnética (1600 L/s) respaldada por una bomba de desplazamiento seca sin aceite-para eliminar el contraflujo de hidrocarburos.

Opción criogénica:Integración de trampa fría de nitrógeno líquido y bomba criogénica para presiones parciales de vapor de agua-bajas.

Medición de vacío:Medidores de cátodo frío y Pirani con calibración cruzada-para información en tiempo real-desde la atmósfera hasta 10^-7 Pa.

Materiales de evaporación
Óxidos:SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3

Fluoruros:MgF2, LaF3

Rieles:Al, Ag, Au, Ti, Cr

Compatibilidad del sustrato
Sustratos ópticos:Ventanas de sílice fundida, N-BK7, silicio, germanio y seleniuro de zinc.

Obleas semiconductoras:Obleas de silicio y semiconductores compuestos de 100 mm a 300 mm.

Polímeros:Películas de PET, PI (poliimida) y PMMA que utilizan parámetros IAD de baja-temperatura.

Óptica de Precisión:Recubrimientos anti-antirreflectantes (AR), espejos láser y filtros de paso de banda estrecho que requieren resistencia a la humedad.

Microelectrónica:Electrodos de puerta metálica, capas de adhesión y barreras de pasivación en envases de semiconductores.

Optoelectrónica:Contactos de óxido conductor transparente (TCO) y capas de encapsulación de barrera de humedad-OLED.

Geometría de la cámara:Construcciones rectangulares o cilíndricas adaptadas a las limitaciones de las paredes de las salas blancas.

Integración de múltiples-fuentes:Configuraciones de co-evaporación con capacidad para hasta tres cañones de haz E-y cuatro botes térmicos.

Puertos de metrología in situ:Puertos de integración de bridas para elipsómetros espectroscópicos o sistemas de monitoreo óptico.

Nivel de automatización:Construcciones de investigación semi-automáticas o manipulación de obleas de casete-a-casete totalmente automatizada.

Detección de fugas:Pruebas con espectrómetro de masas de helio en cada cámara con un umbral de rechazo estricto de <1 x 10^-9 Pa*m^3/s.

Verificación de limpieza:Escaneo del analizador de gases residuales (RGA) realizado antes-del envío para verificar que no haya hidrocarburos orgánicos.

Grabación del sistema-en:Prueba continua de funcionamiento en seco de 72-horas de accionamientos mecánicos, colectores de refrigeración y enclavamientos eléctricos.

Documentación:Certificados de prueba de fábrica de materiales (MTR), esquemas eléctricos e informes de pruebas de aceptación de fábrica (FAT).

Preparación del sitio:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 m^3/h), aire limpio y seco (CDA) y escape.

Puesta en servicio:Implementación de servicios de campo para nivelación mecánica, conexión de servicios públicos, calibración de vacío y aprobación de recetas-.

Capacitación del operador:Programa in situ de 5-días que cubre operación, mantenimiento preventivo, solución de problemas e interbloqueos de seguridad.

Piezas de repuesto:Artículos de desgaste crítico (filamentos, cristales QCM, sellos, cojinetes turbomoleculares) almacenados regionalmente.