La máquina de recubrimiento al alto vacío logra un recubrimiento libre de contaminación-en un entorno de vacío ultra-alto (<5.0×10⁻⁶ Pa), suitable for the preparation of high-purity films. The equipment adopts a dual-chamber isolation design, combined with plasma cleaning and magnetron sputtering technology, significantly enhancing the adhesion and density of the coating. The high vacuum coating machine performs exceptionally well in fields such as high-temperature alloys and aerospace components, with a film layer temperature resistance > 600℃.
Ventajas técnicas:
· La máquina de recubrimiento al alto vacío está equipada con un sistema de escaneo electromagnético que filtra las impurezas de partículas grandes para garantizar la uniformidad de la película;
· El proceso de baja-temperatura (<80℃) avoids damage to the substrate and is suitable for high vacuum coating of sensitive materials;
· El sistema de control desarrollado de forma independiente admite el monitoreo en tiempo real-de múltiples parámetros, cumpliendo con los estrictos requisitos industriales.
Campos de aplicación: aeroespacial, baterías de nueva energía, revestimientos de herramientas-de alta gama, etc.
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