La máquina de recubrimiento de alto vacío logra un recubrimiento sin contaminación en un entorno de vacío ultra alto (<5.0×10⁻⁶ Pa), suitable for the preparation of high-purity films. The equipment adopts a dual-chamber isolation design, combined with plasma cleaning and magnetron sputtering technology, significantly enhancing the adhesion and density of the coating. The high vacuum coating machine performs exceptionally well in fields such as high-temperature alloys and aerospace components, with a film layer temperature resistance > 600℃.
Ventajas técnicas:
· La máquina de recubrimiento de alto vacío está equipada con un sistema de barrido electromagnético, filtrando grandes impurezas de partículas para garantizar la uniformidad de la película;
· El proceso de baja temperatura (<80℃) avoids damage to the substrate and is suitable for high vacuum coating of sensitive materials;
· El sistema de control desarrollado independientemente admite el monitoreo en tiempo real de múltiples parámetros, cumpliendo con los estrictos requisitos industriales.
Campos de aplicación: aeroespacial, nuevas baterías energéticas, recubrimientos de herramientas de alta gama, etc.
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